Le porte-parole du gouvernement congolais, Patrick Muyaya, a réagi au rassemblement tenu à Nairobi autour de l’ancien président Joseph Kabila. C’était au cours d’un briefing presse animé, ce jeudi, aux USA.
Selon lui, ces réunions révèlent « un climat de complicité » avec les ennemis de la RDC.
«Quand vous regardez les personnes qui s’y retrouvent, on voit bien qu’il y a un climat de nostalgie, de privilèges perdus. Et aujourd’hui, quand on observe ce qui en sort, on a désormais la certitude que l’action du Président de la République (…) est une action qui dérange », a affirmé Patrick Muyaya.
Pour le porte-parole:
« l’ennemi n’a pas été nommé (dans la déclaration finale de ces opposants, ndlr). Cela signifie, encore une fois, qu’il existe une forme de complicité de la part de certains Congolais, d’avec le Rwanda et les rebelles du M23, désireux de s’associer à l’entreprise de destruction de ce que nous sommes en train de construire»
Malgré cette critique, Patrick Muyaya a rappelé l’engagement du gouvernement à « trouver des solutions, pas seulement pour les Congolais d’aujourd’hui, mais aussi pour ceux de demain… Pour nous, cet événement n’en est pas un. L’événement, c’est ce que nous avons fait à Washington».
À propos du dialogue national, il a expliqué :
« Le président de la République a déjà tracé la ligne. Il y a un processus qui se déroule ici à Washington, un autre en dehors, et à l’intérieur du pays. Le Président a déjà réuni toutes les confessions religieuses autour d’une feuille de route. Et en tant que garant de la nation, conformément à l’article 69 de la Constitution, le moment venu, c’est lui qui décidera»
Et de conclure :
« Il ne s’agira pas d’un dialogue avec des représentants qui ne savent pas identifier l’ennemi ».
Cette prise de position intervient après la réunion convoquée par Joseph Kabila à Nairobi, au Kenya, à laquelle ont participé plusieurs figures politiques dont la plupart sont déjà des exilés politiques. Cette réunion a débouché sur la création d’une plateforme dénommée « Sauvons la RDC ».
MD